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Plasma etch, Ellipsometry는 빛을
이용하여 측정하므로
금속에는 적용 불가능, 공정 중 gas의 양에 따라…
Plasma etch
Fom(figure of merit)
etch rates
유전체의 경우 Ellipsometry로
전,후 두께 측정
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F : 등방, 속도가 가장 빠르다, 가볍다 , 감압에서 ion damage enhanced etching가능
Cl : 무거워서 비휘발 가능성 높다, 비등방,
Br : etch rate이 많이 감소
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