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Deposition, 초기 기판 E 높이는 방법
→Ion bombardment
→Ozone treatment
→Plasma…
Deposition
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CVD
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장점 & 단점
장점
→high growth rates possible, good reproductive
→generally better film quality, more conformal step coverage
PVD 보다 단점
→높은 T
→과정이 복잡하며, 독성,부식 가스 발생
→수소 가스 등이 포함되엇 pure하지 않다
→ALD보다 aspect ratio가 좋지 않다
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application
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PSG
증착 속도가 굉장히 빠르고, CMP(평탄화)작업 시에 도움이 된다
BPSG
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Si3N4 필요
B,P때문에 베리어가 필요하나, Si3N4는 stress가 커서 buffer layer가 필요하다.
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※Ks<<Hg
→surface reaction controlled
※Ks>>Hg
→mass transfer,gas phase diffusion,controlled
why LPCVD?
→surface reaction하는 구간이
확장된다.
→높은 T가능해져서 증착속도 증가,
막질의 특성이 좋아진다
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