Nguồn điện công nghiệp qua biến thế và nắn dòng sẽ được nạp vào hệ thống tụ.
Điện áp tối đa của tụ là 2kV để điều khiển sự phóng điện tới đèn phát xung đặt ở trong buồng phản xạ ánh sáng.
Buồng này có dạng hình trụ với tiết diện cắt ngang là hình elip. Khi đèn phát xung phát sáng, toàn bộ năng lượng sẽ tập trung tại vị trí có đặt thanh hồng ngọc.
Những ion Cr+3 của thanh hồng ngọc bị kích lên mức năng lượng cao, khi tụt xuống chúng sẽ phát ra những lượng tử.
Nhờ hệ dao động của các gương phản xạ, những lượng tử này sẽ đi qua đi lại nhiều lần qua thanh hồng ngọc và kích các ion Cr+3 khác để rồi cùng phóng ra chùm tia lượng tử. Gương phản xạ toàn phần có độ phản xạ ánh sáng đạt 99%, còn gương phản xạ là gần 50%.
Do đó, một mặt phát sinh chùm tia laser ở phía dưới, mặt khác khoảng 1% chùm tia phát ra qua gương phản xạ toàn phần sẽ được tế bào quang điện thu lại và qua hệ thống chuyển đổi ta biết được năng lượng của chùm tia đã phát ra khỏi máy.
Chùm tia nhận được qua gương sẽ được tập trung bởi hệ thấu kính hội tụ và tác dụng lên chi tiết gia công được đặt trên bàn máy có khả năng di chuyển tọa độ theo ba phương X, Y, Z.