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13MF101729_ NIKN FX65S 製程參數作業指導書 - Coggle Diagram
13MF101729_ NIKN FX65S 製程參數作業指導書
mask data
pellicle
mask size
mask thickness
mask mark setting data
mask pre-alignment mark 依job file 內容 key in
lens calibration mark 依job file 內容 key in
pattern calibration 1 mark 依job file 內容 key in
pattern calibration 2 mark 此欄不動
plate data
plate size X:1850 / Y:1500 ((only 0∘job file) )
plate thickness 依實際厚度而定
exposure condition data
mask info
mask slot num 不調整
mask scaling measurement mark -X:L +X:L
partical check Field: Both
particle check area: -X:-440mm +X: 440mm
-Y:-392mm +Y: 392mm
Judgment condition: System parameter
Mask Pre-alignment Offset Status: On (新mask設OFF)
Mask Pre-alignment Offset: 此欄系統會自動做更新,所以無需輸入任何值
exposure info
Exposure Wavelength: ghi
Exposure method: normal
Exposure Energy Input Mode (each scan)
Exposure Energy control: Integrator
Exposure energy: 設定all scan曝光量,視實際各recipe的CD表現而定
Exposure Focus Offset: 視機台狀況而定 (default : 0)
Exposure Leveling Offset: 視機台狀況而定 (default:0)
Illumination Correction Coefficient: 視機台狀況而定
VFS : 依產品design決定(Normal product : Off)
Offset InfoPlate offset: Default 均為0(依各recipe overlay狀況而決定),此為補Plate Center
Non-Linear Correction: 視機台狀況而定(default : Off)
Alignment Data
EGA
Alignment method: 視層別而定 (1L:--- 2~5L:EGA)
Alignment Mark Selection: Local
Alignment Correction Fix Mode: No
EGA Meas. value check Tolerance: 視產品需求而定
EGA scaling tolerance Check: 視產品需求而定
Requisite Number of EGA Point : 不要勾 (最少需為4)
Alignment Focus Offset: 0
Alignment Leveling Offset: 0
c-EGA
Number of sample plates: 視產品需求而定(default : 3)
Variation check: 視產品需求而定
Signal Processing
內部參數是微調microscope，以增加各層alignment mark讀取率及準確性
Table
依照各job file key入alignment mark position
Scan Data
Pattern size: 曝光區域,請依照job file 所給的資料key in
Pattern position(mask): 每個scan的mask中心位置座標,請依照job file 所給的資料key in
Pattern position(plate): 每個scan的plate中心位置座標,請依照job file 所給的資料key in
Comment:對scan下註解
Scanning Direction:無需設定
Alignment mark Selection:設定每個scan內, plate alignment mark所對應的microscope
Correction data
Shift , scaling , rotation , orthogonality : show VDPP5 offset data
non-linear correction:一般未使用,若要使用的話,量測plate需有一定的form,請參閱FX-65S/MCSi Parameter Explanation說明
Detail data
Exposure energy:設定單一個scan之曝光量,視實際各recipe的CD表現而定
Focus:0
Leveling:0
Enhanced blind: off
Pattern+Y: blind Pattern-Y: blind (此項通常選blind,除非要用VFS或module shutter時才會另外做設定)
Module selection: 手動設定每個scan要使用的lens module,通常不需做設定
AF selection: 手動設定每個scan要使用的AF,通常不需做設定
Switch Data
內部各參數均依照system parameter設定即可，在設recipe時並不需特別更動，除非要做特別實驗)
詳細內容請參閱FX-65S/MCSi Parameter Explanation
Logical Check
對5.2.1~5.2.7的設定做邏輯確認,檢查通過會show綠燈,NG的話會show紅燈並說明錯誤之處,Eng需依此訊息去檢查和確認recipe設定是否有誤.
Optimization
通過邏輯檢查後,按Optimization鈕,針對scan方向和順序做最佳化.