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Diseño electrónico, Emilio Ruvalcaba Sánchez UP180947, ELE08A - Coggle…

- - - - En el dopaje no puede formarse el enlace
        covalente, por lo que existirá un hueco, pareciera que estos son los que fluyen a través del material.
    - - Si al formarse el enlace
        covalente sobra un electrón,sera tipo N. En estos caso en mas fácil observar el flujo de electrones.
- - - - 3.- Difusión: Consiste en introducir átomos de impurezas al
        silicio.
        
        4.-Deposición: vapores se hacen reaccionar químicamente formando sólidos en el sustrato actuando como aislante térmico.
        
        5:-Metalización: proceso por el cual se interconectan diversos componentes para formar el circuito integrado, consisten en la deposición de un metal sobre la superficie de Silicio.