加熱製程

硬體設備

1.控制系統

2.製造爐管

3.氣體輸送系統

4.氣體排放

5.裝載系統

製程分類

1.氧化製程

2.擴散製程

4.高溫化學氣相沉積

3.退火

(1)乾氧氧化製程

(2)濕氧氧化製程

(3)高壓氧化製程

快速加熱製程(RTP)系統

1.快速加熱退火(RAT)系統

2.快速加熱氧化(RTO)

3.快速加熱(CVD)、(RTCVD)

(1)磊晶矽沉積

(2)選擇性磊晶製程

(3)多晶矽沉積

(4)氮化矽沉積