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分析式電子顯微鏡Ch8 (AEM成像 (改變中間鏡電流 (聚焦於聚焦平面, 聚焦於成像平面), 繞射對比 (明視野成像 (物鏡孔鏡擋繞射電子束,…
分析式電子顯微鏡Ch8
AEM成像
改變中間鏡電流
聚焦於聚焦平面
聚焦於成像平面
繞射對比
明視野成像
物鏡孔鏡擋繞射電子束
直射電子束成像
暗視野成像
物鏡孔鏡擋直射電子束
繞射電子束成像
選區繞射
特定區域繞射資料
誤差
物鏡球面像差
物鏡聚焦不當
曲位定律 講義p44
AEM應用
離子佈植
差排理論
機械性質
介面結構
AEM分析式電子顯微鏡
為TEM+分析裝置
AEM構造
影像訊號偵測系統
螢光幕
電子照射螢光幕,陰極發光呈現影像
亮度隨時間逐漸衰減
爍光偵測器
針對極短時間
影像增強系統
增加偵測靈敏度
去除背景雜訊
照相底片
解析度由 電子擴散雲&乳膠擴散顆粒 而定
半導體偵測器
法拉第籠
成像電磁透鏡系統
靜電透鏡
磁透鏡
物鏡
聚焦
中間鏡
決定放大倍率
選擇 繞射圖形or顯微影像
投影鏡
放大工作
試片室
側面置入
操作容易
大角度傾斜
自上置入
高分辨
照明系統
電子槍
鎢絲
熱游離
場發射
聚光鏡
散度小、亮度高、尺寸小電子束
單聚光式
多聚光式
TEM VS SEM
TEM真空度要求較高
TEM為電子依序照射於試片